超高純供氣系統的選擇分類；

一、簡易供氣體系。

簡易供氣體系重要針對4英寸及以下半導體晶片廠、半導體材料研究機構和部分單機加工設備等。其生產工藝簡單，一樣平常不要求延續供氣，燃氣供給體系投資預算低。

氣源中的特別氣體，因為其流量小，不常使用，多采用通俗鋼瓶(<50L)。輸送機多采用半主動氣瓶柜或氣瓶架，并配有簡易控制面板；配有繼電器控制、主動切換、手動吹掃、手動放空、有害氣體配有緊急切斷閥。慣性氣體瓶架采用全手動體系，有的甚至采用單瓶體系。與氣室共用，甚至不與氣室共用，特氣鋼瓶和輸送體系偶然放置在回風夾道，或直接放置在工藝制造設備的隔壁。如無特別有害氣體，一樣平常共用抽氣體系。簡易供氣體系每每存在安全隱患。

二、常規供氣體系。

傳統的供氣體系重要應用于4-6英寸LMIC廠、50MW以下太陽能電池生產線、LED芯片生產線和其他用氣適中規模的電子工業。在保證安全性的前提下，體系配置盡量簡單易行，節約投資，對氣體純度控制要求不高。

用通俗鋼瓶供氣特別氣體(小于50L)。專用運輸體系采用氣瓶柜。配有全主動PLC控制器，彩色觸摸屏；氣動面板采用氣動閥門和壓力傳感器，可實現主動切換，主動排氮，主動真空輔助排氮；多種安全珍愛，檢漏，長途緊急切斷；專用氮氣掃源等。在VMB上采用氣動支路閥，氮氣凈化，真空輔助排空。多采用半主動氣瓶架、繼電器控制、主動切換、手動吹掃、手動排空；VMB監控氣動閥、氮氣吹掃；支路氣動閥、氮氣吹掃、真空輔助排空。氣室和抽氣體系按氣體的性子分類。

三、大容量特氣體系。

大容量供氣體系重要適用于8-12英寸(1英寸=25.4毫米)的大規模生產超大規模集成電路廠(SiH4、N2O、2、C2F6、NH3等)、超過100MW的太陽能電池生產線(SIH4、CL2、NH3等)、發光二極管的Hi-CL4、Si-CL4、Si-CL4、Si-Cl4、Si-Cl4、Si-Cl4、Si-Cl4等，以及硅材料外延生產線(Si-Cl3等)和5代液晶表現器生產線(HCL)。其投資規模重大，采用的超高純供氣體系施工工藝加工設備，用氣量大，對穩固和不間斷供給，對純度控制和安全生產要求嚴酷。

除通俗鋼瓶(50L及以下)所包裝的特別氣體外，在這些工廠中，很多種類的特別氣體都廣泛采用了大型包裝容器，因此被稱為是大型特別氣體，其中包括Y-鋼瓶(450L)、T-鋼瓶(980L)、Customer(940L)、ISO罐(22,500L)、魚雷車(13,400L)等。

大型氣體系采用全主動PLC控制，彩色觸摸屏控制；氣面板采用氣動閥門和壓力傳感器，實現主動切換，主動氮吹掃，主動真空輔助放空；多種安全珍愛，探測走漏，長途緊急切斷；專用氮吹掃電源等。特別氣體采用自力的氣源，多用點由VMB或VMP分路供給，VMB或VMP采用氣動支路閥門，氮氣凈化，真空輔助排空等。氣源總量較大，BSGS多采用自力氣室，自力抽氣體系。